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    Explorando catalisadores altamente seletivos por meio da fabricação de vacância de oxigênio em TiO2

    Ilustração esquemática da oxidação da ligação C-H primária do tolueno. Crédito:Chen Cheng et al.

    Vacância de oxigênio (Ov ) influencia significativamente o processo de oxidação através da adsorção e ativação de oxigênio. A dopagem de elementos pode fabricar vacância de oxigênio no dióxido de titânio (TiO2 ), mas os efeitos dos dopantes na reação de oxidação sobre a vacância de oxigênio permanecem obscuros.
    Uma equipe de pesquisa do Centro de Pesquisa para Ciências Eco-Ambientais da Academia Chinesa de Ciências recentemente fabricou vacância de oxigênio dopando nitrogênio em anatase TiO2 . Seus resultados foram publicados em Cell Reports Physical Science .

    Para fabricar vacância de oxigênio com diferentes estruturas, os pesquisadores doparam nitrogênio (N) e boro (B) em anatase TiO2 (N-TiO2 e B-TiO2 ). Ambos N - –Ti 3+ –Ov e Ti3 + –Ov foram observados em N-TiO2 , mas apenas Ti 3+ –Ov em TiO2 e B-TiO2 . Os resultados mostraram que N - –Ti 3+ –Ov é mais reativo que Ti 3+ –Ov em O2 ativação.

    Além disso, o N - –Ti 3+ –Ov sítios ativos formados em N-TiO2 aumentam significativamente o rendimento térmico e a seletividade da oxidação das ligações C-H primárias no tolueno.

    A adsorção e ativação de O2 são a etapa limitante da taxa na oxidação seletiva de ligações C-H primárias em tolueno. N - –Ti 3+ –Ov como doadores de elétrons contribuíram para uma rápida formação de espécies de superoxigênio (·O2 - ), que demonstrou ser oxigênio ativo para a oxidação da ligação C-H primária.

    A fabricação de N - –Ti 3+ –Ov sites abre um novo caminho para dopantes para melhorar a reatividade de vacância de oxigênio e aumentar a seletividade de oxidação primária C-H. + Explorar mais

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